一、設(shè)備特點(diǎn)：

1、加熱室、過(guò)渡室、油淬室為立式結(jié)構(gòu)（也可臥式）。
2、石墨碳棒加熱，加熱速度快，溫度均勻，使用壽命。
3、脈沖偏壓源，提供高穩(wěn)定的強(qiáng)滲電源。
4、可實(shí)現(xiàn)氣淬；油淬；真空退火；真空回火等多種工藝過(guò)程。

二、工藝特點(diǎn)：

1、滲碳溫度可大幅度降低，實(shí)現(xiàn)滲碳溫度與加熱淬火溫度一致，避免重復(fù)加熱，節(jié)省能源，減小零件變形量。
2、不使用防滲劑，不滲的地方用鐵板遮擋住即可，例：齒輪可先滲碳淬火再拉鍵槽。
3、對(duì)齒輪而言，滲碳優(yōu)勢(shì)明顯，通過(guò)工藝控制可實(shí)現(xiàn)在節(jié)園部分滲層深齒根部分滲層略淺。

例如：對(duì)滲碳層深0.8mm以上。
真空離子滲碳：860℃~880℃保溫2.5h+擴(kuò)散0.5h淬火。
氣體滲碳：930℃保溫3h+擴(kuò)散1h冷卻，再加熱至860℃淬火。

4、耗氣量甚微，節(jié)能環(huán)保。
5、設(shè)備功率分別為：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（電阻加熱功率/輝光放電功率）。
6、工藝類(lèi)型 等離子體滲碳或碳氮共滲的特點(diǎn)之一，是無(wú)憂(yōu)機(jī)械電子在滲入的初期在工件表面就很容易建立高碳濃度，加上表面碳濃度隨處理時(shí)間的延長(zhǎng)而增加，所以必須采取滲碳加擴(kuò)散的工藝（尤其對(duì)滲層較深的工件）。
7、設(shè)備示意圖：

8、等離子體滲碳的原理

等離子體滲碳的原理與離子滲氮相似。工件滲碳時(shí)所需的活性碳原子或離子，不僅象常規(guī)氣體滲碳一樣利用熱分解反應(yīng)，而且還利用輝光放電時(shí)在陰極（工件）位降區(qū)中工作氣體的電離而獲得。以滲碳介質(zhì)丙烷為例，它在等離子滲碳中的反應(yīng)過(guò)程如下：

輝光放電
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃

輝光放電
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃

輝光放電
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃

式中Cr 活性碳原子和離子

9、等離子滲碳的優(yōu)點(diǎn)

⑴滲碳速度快

由于它是在真空中加熱，并有高能離子的轟擊，致使被處理件表面潔凈與活化，再加上滲碳?xì)怏w由于熱分解與電離的雙重作用，并在直流脈沖電場(chǎng)的作用下，使得工件表面附近的空間在短時(shí)間內(nèi)就形成高的碳離子濃度區(qū)，從而加速了碳向工件的滲入與擴(kuò)散，大大縮短滲碳時(shí)間。例如880℃，1h的離子滲碳就可獲得0.6mm深的硬化層，同常規(guī)氣體滲碳相比，可以縮短約50%的時(shí)間。

⑵滲層容易控制

由于工作氣氛氣壓，放電電流密度、滲碳?xì)怏w的流量及導(dǎo)入時(shí)間以及點(diǎn)燃輝光等都可以按需要預(yù)先設(shè)定并調(diào)節(jié)，因而能準(zhǔn)確控制滲層。例如，通過(guò)調(diào)節(jié)放電電流密度值，就可以很容易控制表面碳濃度及硬化層深度。